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華為公開(kāi)“耦合光的光學(xué)芯片及其制造方法”發(fā)明專(zhuān)利

發(fā)表于：2021-04-12 21:37:40 閱讀： 來(lái)源：源智知識(shí)產(chǎn)權(quán)

　　近日，華為技術(shù)有限公司公開(kāi)一項(xiàng)名為“耦合光的光學(xué)芯片及其制造方法”的發(fā)明專(zhuān)利，申請(qǐng)日期為2019年2月，公開(kāi)號(hào)為CN112601995A。該專(zhuān)利摘要顯示，本發(fā)明提供一種用于在光學(xué)芯片與另一光學(xué)器件之間耦合光的光學(xué)芯片，包括：基板;包層，設(shè)置在所述基板上。

　　此外還提供了一種用于制造光學(xué)芯片的方法，其中，蝕刻所述基板形成由第一截面構(gòu)成的側(cè)壁，所述第一截面與所述光學(xué)面成一條直線且相鄰。

　　從所述基板的背面去除所述基板的一部分以對(duì)晶圓進(jìn)行切割，使得所述光學(xué)芯片的第二截面與所述光學(xué)面成一條直線或從所述光學(xué)面凹入。

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